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SADP
SADP,self-aligned double patterning,自对准双重成像技术。
SADP技术通过沉积和刻蚀工艺在心轴(mandrel)侧壁上形成间隔物,经由额外的刻蚀步骤移除心轴,使用间隔物定义最终结构,使得特征密度增加了一倍。将SADP加倍可以得到四重图案化工艺(SAQP),使得193nm浸润式光刻可以实现10nm的分辨率。
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自定义分类:
芯片
参考资料:
7nm 制程工艺如何实现?
https://zhuanlan.zhihu.com/p/150954590
贡献者:
Gilgamesh
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